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《分析化学》
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2003年第1期
编号:
10946610
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控
http://www.100md.com
陈友存 陈文章 刘光祥
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱,高分子端基修饰反应
第1页
参见附件(120KB,1页)。
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控.PDF
http://www.100md.com/html/DirDu/2006/03/12/94/60/61.htm
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