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《分析化学》
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2003年第8期
编号:
10947569
pH值对聚四氨基酞菁钴膜电化学和紫外光谱性质的影响
http://www.100md.com
武冬梅 郭黎平杜锡光 丛芳地 崔秀君
四氨基酞菁钴,电聚合,酸度,循环伏安法,紫外光谱,化学修饰电极
第1页
参见附件(220KB,3页)。
pH值对聚四氨基酞菁钴膜电化学和紫外光谱性质的影响.PDF
http://www.100md.com/html/DirDu/2006/03/12/94/79/56.htm
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