不同磨抛方法对烤瓷表面粗糙度的影响
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[摘要]目的：观察不同的磨抛程序和自上釉的陶瓷表面的粗糙度，为临床陶瓷修复体抛光提供可参考的依据。方法：按照不同的抛光程序进行分组，以自上釉组作为对照组。在抛光过程中以粗糙度测试仪测试抛光过程中陶瓷表面粗糙度变化并进行统计学分析。结果：经由粗到细的磨抛工具进行抛光后，陶瓷表面粗糙度均稳步下降，各组在使用ceramaster抛光头后表面粗糙度值趋于稳定，与其后使用抛光膏抛光后已无显著性差异(P>0.05)，凡是经Ceramaster及抛光膏抛光后的实验组陶瓷表面粗糙度与对照(上釉)组无显著差异(P>0.05)。结论：陶瓷使用由粗到细的抛光工具逐步抛光，可以使陶瓷表面粗糙度稳步下降，选用合适的抛光工具和合理的抛光程序可以简化抛光过程并使陶瓷表面达到上釉陶瓷表面的粗糙度。[关键词]表面粗糙度；抛光；齿科陶瓷
[中图分类号]R78 3[文献标识码]A [文章编号]1008—6455(2007)02—0237一04
陶瓷是制作冠、桥等修复体的理想材料，其生物相容性好，颜色美观，已为越来越多的患者所接受。陶瓷修复体在试戴过程中会进行必要的邻接、咬合、外形等调整，使得陶瓷表面变粗糙。粗糙的修复体表面对修复体本身及口腔环境都有一定的影响，可加剧菌斑附着，会引起对颌牙过度磨耗，以及影响瓷修复体的机械强度等。deJager等研究发现瓷样本的表面粗糙度值Ra越高，所测得的双轴挠曲强度值越低。Fischer H等也得出类似结果 ......
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