毛然然 邱丽芳

    [摘要]目的：探究四甲基硅烷(TMS)與苯等离子体连续沉积对树脂与牙科氧化锆陶瓷粘接的粘接强度的影响。方法：将55个氧化锆陶瓷片随机分为TMS组、苯等离子体组、TMS+苯等离子体组、氧化锆涂底剂(ZPP)组及对照组，每组11个氧化锆陶瓷片。按照分组给予不同的氧化锆表面处理，采用X射线光电子能谱分析仪观察各组表面化学元素含量及种类，采用透射电子显微镜观察TMS+苯等离子体组表面涂层结构，采用剪切粘接强度试验观察给予不同表面处理后各组粘接强度及断裂模式。结果：TMS组、苯等离子体组、TMS+苯等离子体组、ZPP组碳原子含量及碳氧比均低于对照组(P0.05);对照组、ZPP组及苯等离子体组表面除碳氧原子外主要含有Zr与Al，TMS组与TMS+苯等离子体组因使用四甲基硅烷等离子体沉积，因此表面还含有Si原子，见表1。

    2.2 TMS+苯等离子体组氧化锆表面涂层结构：TMS+苯等离子体组经过TMS与苯的连续等离子体沉积后，通过透射电镜观察到在ZrO2层上明显的两个紧密结合的涂层，见图1。

    2.3 各组剪切粘接强度：TMS组、苯等离子体组、TMS+苯等离子体组、ZPP组粘接强度均高于对照组(P<0.05);TMS+苯等离子体组粘接强度均高于TMS组、苯等离子体组、ZPP组(P<0.05)，见表2。

    2.4 各组断裂模式分类：各组均无内聚断裂，对照组全为粘接断裂，混合断裂占比最高的为TMS+苯等离子体组100.00%(11/11) ......