同轴双导管技术在后循环颅内支架植入术的应用
【摘要】目的:探讨同轴双导管技术在后循环颅内支架植入術的应用方法及效果。方法:选取我院在2014年1月到2015年1月间收治的21例后循环颅内段狭窄患者,对其实施脑血管支架植入术,经单导管输送失败后,改用同轴双导管技术,单导管成功者记为对照组,双导管成功者记为观察组,比较两组治疗效果。结果:单导管技术支架输送成功率为33.3%,同轴双导管技术后均获得成功成功率为92.9%;两组比较差异显著,具有统计学意义(p<0.05)。结论:在后循环颅内段狭窄患者的治疗中,应用同轴双导管技术可以提高支架植入术的成功率,且安全可靠,可行性强。【关键词】同轴双导管技术;后循环颅内支架;植入术;应用
后循环颅内段狭窄或闭塞往往会导致椎基底动脉系统缺血,易造成脑梗死,包括脑干、小脑以及颞枕叶等部位;目前随着医疗技术的进步,可以通过脑血管介入技术进行治疗,但因为支架输送中会遇到其系统解剖结构管径细、弯曲多等阻力,手术成功率较低。本组研究选取21例患者,对其进行分组比较研究,探讨同轴双导管技术在后循环颅内支架植入术的应用方法及效果 ......
您现在查看是摘要页,全文长 4164 字符。