分析牙釉质龋表层带形成的原因
【中图分类号】R783 【文献标识码】A 【文章编号】1672-3783(2011)07-0268-01【关键词】牙釉质龋表层带
龋发展过程中,釉质内出现四层有特征性的带,他们分别代表了龋破坏的不同阶段。在四层病变中,表层带是一层相对完整、损害较轻的薄带,研究它的形成机理对理解龋损的破坏与修复有着重要意义。有人认为表层带的形成与表层釉质结构有关,也有人提出周围环境、致龋条件决定了表层带形成。本文通过对自然龋形态的观察及人工龋实验结果的分析,着重讨论了表层带的厚度及形成原因。
材料与方法
1 自然龋牙:口腔外科拔除的表面有白垩改变的早期釉质龋牙100例。沿龋损区纵剖开磨成100μm厚的牙薄片,在正交偏光下分别经水、乙醇、喹啉介质浸渍,观察釉质龋表层病变的形态变化。
2 人工龋模型:本实验共用正常牙40颗,分切后得牙块,平均分为10组,每组牙在各自的条件下制成人工龋。本实验用的三种致龋方法是:(1)酸性明胶人工龋:用国产明胶分别配成11%、5%、3.5%和2%浓度的明胶液,溶液含有0.1M的乳酸液,用10mM NaOH将PH调至4.6。实验用牙分组方式是:①同一牙分切成3块 ......
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